錫光劑的工作原理

所有錫光劑表面有一個緞面啞光的外觀，除非化學漂白或機械處理。鋁是一種比較活性的金屬，標準電位為-1.66V，在空氣中可以自然形成一層厚度約為0.01 ~ 0.1微米的氧化膜，這層氧化膜是非晶態的，薄而多孔，耐腐蝕性較差。但是，如果將鋁及其合金置于適當的錫光劑中，以鋁制品為陽極，在外加電流的作用下，使表面形成氧化膜，這種方法稱為錫光劑。

通過選用不同類型、不同濃度的錫光劑，以及控制氧化工藝條件，可獲得具有不同性能、厚度在幾十~數百微米左右的產品，其耐蝕性、耐磨性和裝飾性均有明顯的提高和改善。鋁及鋁合金錫光劑所用的錫光劑一般為溶解度適中的酸性溶液，鉛或鋁作為陰極僅起導電作用。影響氧化膜質量的主要因素有:

硫酸濃度:一般為15% ~ 20%。濃度增加，膜的溶解速率增加，膜的生長速率降低，膜的孔隙率高，吸附力強，有彈性，著色好(容易染黑)，但硬度、耐磨性稍差;當硫酸濃度降低時，氧化膜的生長速度加快，氧化膜的氣孔減少，硬度高，耐磨性好。因此，對于防護、裝修和純裝修處理，采用允許濃度的上限，即20%濃度的硫酸作為錫光劑。

錫光劑溫度:錫光劑溫度對氧化膜質量影響較大。隨著溫度的升高，薄膜的溶出速率變大，薄膜厚度減小。當溫度為22 ~ 30℃時，得到的膜較軟，吸附能力較好，但耐磨性較差;當溫度大于30℃時，涂膜變得疏松不均勻，有時甚至不連續，硬度低，因此失去使用價值;當溫度在10 ~ 20℃之間時，生成的氧化膜多孔，吸附能力強，且有彈性，適合染色，但膜的硬度低，耐磨性差;當溫度低于10℃時，氧化膜厚度增加，硬度高，耐磨性好，但孔隙率低。因此，在生產過程中要嚴格控制錫光劑的溫度。要制作厚而硬的氧化膜，就要降低操作溫度，在氧化過程中利用壓縮空氣攪拌而溫度相對較低，通常在0度左右進行硬氧化。電流密度:在一定限度內，電流密度變大，薄膜生長速率變大，氧化時間縮短，薄膜孔隙多，易著色，硬度和耐磨性增加;如果電流密度過高，受焦耳熱的影響，會使零件表面過熱，使局部溶液溫度升高，薄膜的溶解速度增加，有燒損零件的可能;如果電流密度過低，薄膜生長速度較慢，但得到的薄膜致密，硬度和耐磨性降低。